TR EN

Oxford PlasmaPro100 Polaris ICP RIE

Oxford PlasmaPro100 Polaris ICP RIE

Oxford PlasmaPro100 Polaris ICP RIE

Kategori: OXFORD ICP RIE ETCH

GaN, SiC ve Sapphire gibi kapsamlı aşındırma malzemeleri deneyimiyle teknolojilerimiz,  aygıtlarınızın performansını en üst düzeye çıkarmak için gereken sahip olma maliyetini ve üretim verimini sağlar.

Oxford PlasmaPro 100 Polaris tekli wafer aşındırma sistemi, rekabet avantajınızı korumak için ihtiyaç duyduğunuz mükemmel aşındırma sonuçlarını üretmek için akıllı çözümler sunar.

  • Mükemmel aşındırma oranları
  • Düşük sahip olma maliyeti
  • Sert kimyalar için özel olarak tasarlanmıştır
  • Mükemmel aşındırma homojenliği
  • Safir kenetleme yapabilen özel elektrostatik kıskaç teknolojisi,
  • Safir ve silikon üzerinde GaN
  • Yüksek iletkenlikli pompalama sistemi
  • Diğer PlasmaPro sistemleriyle kümelenebilir

Daha fazla bilgi için tıklayınız.

Diğer Ürünler