Oxford FlexAL atomik katman biriktirme (ALD) sistemi, kullanılan prekürsörler, proses gazları ve tek bir proses odası ile geniş bir konfigürasyonunda maksimum esneklik ile optimize edilmiş yüksek kaliteli plazma ALD ve termal ALD prosesleri sunar.

• Tek bir biriktirme odasında Oxford termal ALD ile birlikte düşük hasarlı plazma ALD için remote plazma özelliği
• Film özelliklerinin kontrolü için RF beslemeli elektrot seçeneği mevcuttur
• Daha yüksek verim için endüstri standardı olan kasetten kasete işleme olanağı sunar
• Prekürsörler, proses gazları, donanım özellikleri seçiminde maksimum esneklik
• Düşük hasarlı proses teknolojisi ile yüksek kaliteli alttaşları korumak için optimize edilmiştir
• Sıcaklığa duyarlı yüzeylerde yüksek kaliteli birikim sağlamak için düşük sıcaklık teknolojisine sahiptir

Daha fazla bilgi için tıklayınız.